Toshiba et Kaga Toshiba célèbrent l'inauguration d'une unité de production basée sur la nouvelle plaquette de 200 mm

Toshiba Corporation et Kaga Toshiba Electronics Corporation (Kaga Toshiba) ont marqué aujourd’hui l’ouverture officielle d’une nouvelle unité de production de semi-conducteurs sur plaquettes de 200 mm chez Kaga Toshiba, filiale consolidée de Toshiba installée dans la préfecture d’Ishikawa, au Japon. La nouvelle unité va accroître la capacité de production destinée aux dispositifs d’alimentation.

Il y a une demande croissante en systèmes d’alimentation assurant le contrôle du flux de courant et la conversion de tension dans les produits numériques grand public, notamment les téléviseurs, les équipements mobiles personnels et les véhicules hybrides. L’investissement de Toshiba et de Kaga Toshiba dans la nouvelle unité de production va accroître les capacités destinées à ces systèmes clés.

La nouvelle unité a été mise en service fin septembre, achevant la première phase d’un programme d’investissement dans un nouveau bâtiment et dans un équipement de production qui doit atteindre au total 55 milliards de yens sur cinq ans, de l’exercice 2006 à l’exercice 2010. L’unité de production devrait atteindre progressivement une capacité de 60 000 plaquettes par mois, susceptible d’être encore augmentée pour répondre à la croissance du marché. Cette nouvelle unité de production vient conforter la démarche de Toshiba qui souhaite devenir le premier fabricant mondial de systèmes d’alimentation.

L’activité semi-conducteurs bien équilibrée du groupe Toshiba couvre trois grands domaines de produits : les LSI systèmes, les mémoires et les dispositifs discrets. Kaga Toshiba fonctionne comme une structure clé du groupe Toshiba pour les dispositifs discrets, en prenant en charge le développement des produits et les opérations amont et aval pour les systèmes petits signaux et les systèmes d’alimentation.

« Nous favorisons les investissements qui renforcent notre position et nos capacités sur nos principaux marchés », a déclaré Keizo Tani, le vice-président directeur de la Société de semi-conducteurs de Toshiba et vice-président de la division Semi-conducteurs discrets. « Parallèlement à nos investissements proactifs dans la mémoire flash NAND à Yokkaichi et aux LSI de pointe à Oita, nous faisons cet investissement chez Kaga Toshiba pour accroître notre activité dans le domaine des dispositifs d’alimentation, un secteur de produits clé et renforcer la rentabilité globale de l’activité semi-conducteurs. »

Tatsuro Mitani, le président de Kaga Toshiba Electronics, se réjouit, lui aussi, de l’inauguration de la nouvelle structure : « Les dispositifs d’alimentation ont un grand avenir, a-t-il déclaré, et cet investissement, en phase avec le marché, va renforcer notre activité dans les produits discrets et nous permettre de générer des bénéfices durables. Notre objectif est désormais d’utiliser cette nouvelle unité de production pour positionner Toshiba comme le leader mondial des dispositifs d’alimentation. »

Vue d’ensemble du groupe Kaga Toshiba Electronics Corporation :
Localisation :		1-1, Iwauchi-cho, Nomi-shi, préfecture d’Ishikawa, Japon
Création :		6 décembre 1984
Président et directeur délégué :		Tatsuro Mitani
Effectifs :		Environ 850
Capitalisation :		3,3 milliards de yens (Filiale à 100 % de Toshiba)
Principaux produits :		Semi-conducteurs discrets (systèmes petits signaux et systèmes d’alimentation)

Vue d’ensemble de la nouvelle unité de production :
Structure du bâtiment :		Béton à armature d’acier, deux étages
Surface totale au sol :		Environ 23 000 m²
Début de la construction :		Septembre 2006
Achèvement :		Mai 2007

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