Oerlikon Systems annonce la vente de VERSALINE(TM) à Cornell University

Oerlikon Systems a annoncé récemment que l’Unité de technologie et de sciences à l’échelle nanométrique de Cornell University (CNF) à Ithaca dans l’état de New York, avait acheté un système de gravure profonde à sec du silicium, le VERSALINE^TM.

Ce système VERSALINE^TM va apporter de nouvelles capacités de traitement pour la fabrication des dispositifs MEMS et permettre à un large éventail de projets de technologie et de science à l’échelle nanométrique de voir le jour. Le système intègre la toute dernière technologie de gravure profonde du silicium (DSE^®) d’Oerlikon qui offre la précision de gravure et la latitude de traitement nécessaires pour créer la nouvelle génération de dispositifs à l’échelle nanométrique et MEMS.

L’Unité de technologie et de sciences à l’échelle nanométrique de Cornell (http://www.cnf.cornell.edu) est une structure nationale destinée aux utilisateurs qui propose des ressources de pointe associées à un personnel expert dans le cadre du réseau national d’infrastructure de nanofabrication (National Nanofabrication Infrastructure Network - NNIN). Cette année marque la 30^e année de fonctionnement de la CNF. La recherche, à la CNF, comprend les sciences physiques, l’ingénierie et les sciences de la vie et met fortement l’accent sur une démarche inter-disciplinaire. Plus de 700 personnes (dont 50 % viennent de l’extérieur de Cornell) utilisent chaque année les ressources de fabrication, de synthèse, de calcul, de caractérisation et d’intégration de la CNF pour élaborer des structures, construire des dispositifs et des systèmes à des échelles de longueur allant de l’atome au micron. La gravure à sec du silicium est une des procédures cruciales de la recherche dans ces domaines.

« Après une évaluation exhaustive et détaillée de la technologie disponible en matière de gravure profonde du silicium disponible, les performances du VERSALINE^TM DSE^® d’Oerlikon offraient la meilleure combinaison de latitude de traitement étonnante, de sélectivité des masques et de taux élevé de gravure dont nous avons besoin pour répondre aux besoins des projets de nos nombreux utilisateurs », a déclaré Don Tennant, directeur de l’exploitation à la CNF.

Vince Genova, l’ingénieur de la CNF responsable de l’analyse des divers résultats, a ajouté : « Ce système de gravure à sec DRIE de pointe a également minimisé le décalage RIE, a fait preuve d’une gravure au taux d’aspect élevé, a amélioré la morphologie latérale et a éliminé les objets habituels rencontrés dans ce domaine. Nous avons hâte de voir arriver l’outil plus tard dans l’année. »

David Lishan, scientifique principal chez Oerlikon Systems, déclare : « Nos collaborations avec Cornell datent de près de dix ans et nous sommes ravis de continuer à travailler avec Cornell pour repousser les limites des MEMS et de la nanotechnologie. Cette opportunité est un autre exemple de l’engagement d’Oerlikon envers la recherche avancée. »

Oerlikon (SWX : OERL) fait partie des sociétés industrielles high-tech axées sur l’engineering machine et systèmes les plus fructueuses du monde. Oerlikon est synonyme de solutions industrielles leaders et de technologie ultra moderne dans la production textile, les revêtements à couche mince, la propulsion, la précision et la technologie sous vide. En tant que société d’origine suisse et possédant un siècle de tradition, Oerlikon, avec un CA de 4,8 milliards de francs suisses, plus de 19 000 salariés sur 170 sites dans 35 pays, a évolué pour devenir aujourd’hui un acteur international.

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